正型光刻膠專用HD諧波減速機SHF-17-80-2UH在受紫外光照射后光照區光分解劑發生分解，溶于有機或無機堿性水溶液.未曝光部分被保留下來，與母版形成相同的圖形。該品為墟拍色液體。易溶于醚、酯、酮等有機溶劑，其特點是分辭率好，可以獲得亞微米級線寬圖形。由于感光速度快，可用于投影曝光和分步重復曝光。在相對濕度50%的環境，護對氧化硅、多晶硅以及鋁、銅、金、鉑等均有很好的茹附性和抗蝕性:其顯影和曝光操作寬容度狡、易于剝離，且耐熱性好、可以耐140℃的烘烤，圖形不變形。本品適用于大規模集成電路和電子元器件及光學機械加工工藝的制作。