蒸鍍原理
電子束蒸鍍專用HD諧波減速機SHF-17-30-2UH電子束蒸鍍是利用加速電子轟擊鍍膜材料,電子的動能轉換成熱能使鍍膜材料加熱蒸發,并成膜。電子槍有直射式、環型和e型槍之分。電子束加熱蒸鍍的特點是能獲得極高的能量密度,可達l09w/cm2,加熱溫度可達3000~6000℃,可以蒸發難熔金屬或化合物;被蒸發材料置于水冷的坩堝中,可避免坩堝材料的污染,制備高純薄膜;另外,由于蒸發物加熱面積小,因而熱輻射損失減少,熱效率高。但結構較復雜,且對較多的化合物,由于電子的轟擊有可能分解,故不適合多數化合物的蒸鍍。
電子束蒸鍍常用來制備Al、C0、Ni、Fe的合金或氧化物膜,Si02、Zr02膜,抗腐蝕和耐高溫氧化膜。[1]
優劣比較
電子束蒸鍍與利用電阻進行蒸鍍的優勢在于:可以為待蒸發的物質提供更高的熱量,因此蒸鍍的速率也更快;電子束定位準確,可以避免坩堝材料的蒸發和污染。但是由于蒸鍍過程中需要持續水冷,對能量的利用率不高;而且由于高能電子可能帶來的二次電子可能使殘余的氣體分子電離,也有可能帶來污染。此外,大多數的化合物薄膜在被高能電子轟擊時會發生分解,這影響了薄膜的成分和結構。